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Pulvérisation au magnétron avec contrôle d'épaisseur en temps réel

Pulvérisation au magnétron avec contrôle d'épaisseur en temps réel Tous les secteurs >> Industrie
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Pulvérisation au magnétron avec contrôle d'épaisseur en temps réel
Une invention de l'ingénierie allemande facilite le dépôt homogène de fines pellicules par pulvérisation au magnétron. Cette méthode résulte en une meilleure qualité de produits et une production en hausse grâce à moins de temps d'arrêt système.

Le Fraunhofer Institute for Surface Engineering and Thin Films (Fraunhofer IST) a coordonné un projet de recherche de plusieurs millions d'euros sur 3 ans intitulé 3RD GENLAC dans le but de produire la prochaine génération de revêtements optiques.

Le Fraunhofer IST se spécialise dans tous les types d'applications de pellicules fines, y compris l'utilisation de la pulvérisation au magnétron des surfaces étendues. L'un des problèmes liés à l'utilisation de cibles céramiques dans la pulvérisation au magnétron est leur érosion au cours du temps, qui peut conduire à des taux de déposition hétérogènes. Pour y remédier, on peut effectuer des calibrations fréquentes, mais il s'ensuit une perte de temps de production.

Les ingénieurs allemands ont trouvé une nouvelle solution qui permet de mesurer et d'ajuster le taux d'érosion de la cible en temps réel. Plus précisément, le Fraunhofer IST utilise la fluorescence des rayons X (XRF) pour mesurer la perte de cible dans une double cathode (D.C.) plane secondaire de pulvérisation remplie d'argon. Un signal XRF constant indique une production uniforme à partir de la source de pulvérisation rotative cylindrique principale.

La nouvelle configuration est adaptée aux applications de vitrification architecturale dans lesquelles les normes sont extrêmement élevées en ce qui concerne l'homogénéité de l'épaisseur de pellicule, comme les fenêtres à faible émissivité.




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Source d'information: Cordis Nouvelles - Résultat du programme EESD financé par l'UE


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